Výskumno - vývojové centrum plazmových technológií - Depozičné zariadenie s vysokou ionizáciou plazmy
Zákazka obsahuje dodanie 1 ks depozičného zariadenia s vysokou ionizáciou plazmy pozostávajúceho z dvojdverovej vákuovej komory dvojplášťovej chladenej, 1 ks vákuový systém s meracím systémom, 10 ks magnetrónových elektród nevyvážených jednosmerného typu a 1 ks ARC filtrovaná elektróda vrátane elektrických zdrojov, 2 ks magnetrónových zdrojov vysokoionizovanej plazmy (účinnosť ionizácie min. 80 %), 1 ks zdroj predpätia kompatibilný so zdrojom vysokoionizovanej plazmy, vnútorný ohrev komory, napúšťací systém na min. 3 plyny s regulačnou elektronikou, satelitné zariadenie, centrálny riadiaci systém.
Termín
Lehota na predkladanie ponúk bola 2012-08-14.
Verejné obstarávanie bolo zverejnené na 2012-07-13.
Dodávatelia
V rozhodnutiach o udelení zákazky alebo v iných dokumentoch o verejnom obstarávaní sú uvedení títo dodávatelia:
Kto?
Čo?
Kde?
História obstarávania
| Dátum |
Dokument |
| 2012-07-13
|
Oznámenie o vyhlásení verejného obstarávania
|
| 2013-05-13
|
Oznámenia o zadaní zákazky
|